Thèmes abordés |
La formation aborde les sujets suivants : procédés de fabrication des dispositifs micro et nanoscopiques, MEMs, NEMs, et des circuits intégrés :
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matériaux semiconducteurs et leur fabrication,
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oxydation, implantation ionique, dopage, métallisation, traitement par plasma...
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micro et nanolithographie, gravures laser, etc.
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micro et nanocaractérisation : SEM, AFM, Ellipsométrie, Dektak,...
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Acquis d'apprentissage |
Eu égard au référentiel AA du programme « Master ingénieur civil électricien », ce cours contribue au développement, à l'acquisition et à l'évaluation des acquis d'apprentissage suivants :
AA 1.1, 1.2, 1.3, AA 2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, AA3.1 , 3.2, 3.3,
4.1, 4.2, 4.3, 4.4, AA 5.1, 5.2, 5.3, 5.4, 5.5, 5.6, AA 6.1, 6.3
A l'issue de cet enseignement, les étudiants seront en mesure de :
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Intégrer les procédés de fabrication de dispositifs électroniques de dimensions micro et nanoscopiques en vue de réaliser des dispositifs particuliers
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Utiliser des outils de simulation numérique de processus de fabrication
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Réaliser des étapes de micro et nanofabrication en salle blanche
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Caractériser les étapes avec les outils disponibles dans WinFab et Welcome
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Contenu |
Une première étape, utilisant des outils de simulation numérique, permettra aux étudiants de se familiariser à la modélisation des processus de fabrication et à la caractérisation de dispositifs.
Une seconde étape, en salle blanche, donnera l'occasion aux étudiants de réaliser quelques étapes clés d'un processus complet de micro et nanofabrication, et de les caractériser.
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